01行業盛會
上海，2024年9月25日 —— 在萬眾矚目的Tower Semiconductor 2024年全球技術研討會（TGS）盛會上，PIC Studio的最新版本憑借其全面的功能，成功吸引了全球業界精英的廣泛關注。此次大會以“賦能未來：模擬技術創新塑造世界”為主題，不僅深度探討了人工智能、大模型發展對半導體先進技術的導向趨勢，還集中展示了Tower Semiconductor在模擬及硅基光電子領域的非凡成就。
圖1：展區
在大會的展區，最新版本的PIC Studio受到了廣泛關注。這款作為硅基光電子集成電路（PIC）設計領域的重要工具，憑借其全流程、高度集成及開放第三方接口的特點，受到了全球精英的期待與關注。
02展會交流
PIC Studio最新版本在保留原有強大功能的基礎上，進一步支持基于Tower的PH18硅基光電子工藝PDK，為硅基光電子設計師們提供了前所未有的便捷與支持。
圖2：Mr.Naoki Okada(Co-Director of PDK, WW Customer Design Enablement Services)現場交流
圖3：Dr.Marco Racanelli(President)現場交流
圖4：現場觀眾交流
具體來說，新版本PIC Studio全面集成了多個核心組件，每一個都經過精心設計與優化，以滿足不同設計需求。
圖5：PIC Studio全鏈路流程圖
PhotoCAD作為高效的版圖設計工具，不僅支持組件布局、光程匹配與自動繞線等高級功能，還內置了設計規則檢查（DRC）模塊，確保設計成果從一開始就符合嚴格的工藝要求。
而pSim與pSim Plus則分別承擔了原理圖與鏈路仿真、系統級仿真的重任，前者側重于快速驗證設計原理，后者則支持復雜的光電融合仿真，包括非線性光纖、DSP處理、TDECQ分析等高級功能，助力設計師從多維度、多層面理解并優化設計方案。
尤為值得一提的是，PIC Studio還引入了Advanced SDL技術，實現了原理圖驅動版圖生成（SDL）與版圖生成原理圖（LDS）的雙向轉換。這一創新功能不僅大幅提高了設計效率，還確保了版圖與原理圖之間的一致性，為后續的設計驗證與生產制造奠定了堅實基礎。
此外，pMaxwell電磁仿真工具與pVerify設計規則檢查工具的加入，更是為設計的準確性與合規性提供了雙重保障。
03尾聲
借用TGS大會演講者Mr.Russell Ellwanger（CEO）的一句話："Good news is no news, no news is bad news, bad news is good news."無論您對我們的技術解決方案是批評還是贊揚的聲音，我們誠摯歡迎您與我們的人員進行交流，深入了解我司在硅基光電子工藝設計與仿真技術布局及產品應用方面的創新成果，我們期待與您再次相聚！
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