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上海工研院趙明月首先詳細介紹了SITRI硅光流片平臺的最新工藝進展，重點闡述了基于90nm SOI和180nm SiN兩大工藝平臺的PDK特性，詳細介紹了工藝平臺的器件性能指標，包括波導損耗、光柵耦合器、MMI等關鍵器件的性能參數，展示了優異的工藝水平，體現了平臺優秀的工藝能力。

在實操環節，逍遙科技韓雨輝展示了基于PIC Studio平臺的PDK使用方法。從PhotoCAD代碼設計到ASDL原理圖轉版圖，通過實際案例演示了完整的設計流程。特別是在智能化布線控制、器件參數化設計等方面進行了細致講解，幫助參會者更好地理解PDK的實際應用。

逍遙科技黎超則針對仿真驗證環節進行了詳細講解，展示了如何利用pSim Plus片上鏈路以及系統仿真工具進行時域和頻域仿真，幫助用戶更好地理解和應用緊湊模型進行系統級驗證。

本次培訓的一大亮點是發布了2025年MPW流片時間計劃，其中包括：

• 4月15日、7月15日、10月15日：90nm工藝節點SOI無源流片

• 2月15日、5月15日、8月15日、11月15日：有源流片服務

值得注意的是，2025年SITRI還將推出SOI和氮化硅的有源集成工藝，進一步豐富工藝平臺的技術能力。同時，平臺還將繼續優化PDK功能，提供更完善的設計支持。

在最后的問答環節中，參會者就PDK使用、器件性能等方面展開了熱烈討論。工程師們就用戶關心的問題進行了詳細解答，包括探測器工作電壓、自定義模型庫構建等技術細節。

本次培訓的圓滿舉辦，標志著上海工研院與逍遙科技在硅光PDK領域的深度合作取得重要進展。雙方將繼續加強技術交流與合作，為用戶提供更完善的硅光芯片設計解決方案。

此次培訓長達一個半小時，內容豐富，互動熱烈，展現了硅光產業蓬勃發展的活力。期待下一期的技術交流活動，繼續為廣大硅光設計工程師帶來更多實用的設計經驗和技術分享。